CST入門11-Boundary邊界條件
計算有限大的問題時需要指定邊界條件。邊界條件在Simulation下的boundary對話框中設(shè)置。
這時模型結(jié)構(gòu)將顯示彩色邊界框。根據(jù)邊界條件設(shè)置的不同會顯示不同的顏色。
可以雙擊窗口中的邊界條件圖標來選擇一個邊界。或用鼠標右鍵選擇對應(yīng)的設(shè)置:
邊界條件在低頻和高頻的含義有所不同,分開說明。
低頻:
Electric邊界:電邊界像完美電導(dǎo)體,電場的切向分量和磁通的法向分量都是零。電場垂直于邊界,磁通平行于邊界。對于所有的靜磁或準靜磁應(yīng)用,電邊界條件對應(yīng)切向邊界條件。對于所有靜電或準靜電應(yīng)用,對應(yīng)法向邊界條件。
Magnetic邊界:磁邊界像完美磁導(dǎo)體,磁通量的切向分量和電場的法向分量為零。電場平行于邊界,磁通量垂直于邊界。對于所有的靜磁或準靜磁應(yīng)用,磁邊界條件對應(yīng)法向邊界條件。對于所有靜電或準靜電應(yīng)用,對應(yīng)切向邊界條件。
Open邊界:開放邊界將幾何模型虛擬擴展到無限遠。
Open (add space lf)邊界:類似于Open邊界條件,只是將幾何模型和實際應(yīng)用的邊界之間增加了額外空間,額外的空間用bounding box distance factor定義,增加的空間為bounding box的對角線長度乘以這個factor,如果在background屬性中也定義了額外的space,則使用這兩者的較大值。
Normal邊界:法向邊界強制電場、磁場、電流的切向分量在邊界處為零。在邊界處僅存在法向分量。對于所有靜磁或準靜磁應(yīng)用,法向邊界條件等同于磁邊界條件。對于靜電或準靜電應(yīng)用,等同于電邊界條件。normal邊界條件僅可用于靜電和靜磁穩(wěn)態(tài)電流求解器。
Tangential邊界:切向邊界強制電場、磁場、電流的法向分量在邊界處為零。對于靜磁或準靜磁應(yīng)用,切向邊界條件等同于電邊界條件。對于靜電或準靜電應(yīng)用,等同于磁邊界條件。Tangential邊界條件僅可用于靜電和靜磁靜態(tài)電流求解器。
Periodic 邊界:周期邊界條件僅適用于靜電求解器,且只能用于六面體網(wǎng)格。
注意:能用electric, magnetic, open邊界的時候就不用normal, tangential
如果在邊界處定義源會覆蓋源位置處的邊界條件。例如,在tangential切向邊界條件處加一個電流端口會強制一個法向邊界的電流場。
高頻:
Electric邊界:電邊界像完美電導(dǎo)體:切向電場和法向磁通為零。
Magnetic邊界:磁邊界像完美磁導(dǎo)體,切向磁通和法向電場為零。
Open (PML) 邊界:開放邊界通過使用完美匹配層(PML)邊界將模型虛擬擴展至無限域。電磁波可以以最小的反射通過這個邊界。
Open (add space)邊界:與Open (PML)相同,區(qū)別是為了遠場計算會增加額外空間。對于天線仿真,建議用此邊界。PIC求解器中除了讓電磁波可以以最小反射通過外,PML還可以吸收額外的帶電粒子。但僅適用于用CPU計算的PIC求解,不能開GPU加速。同樣如果在background中定義了額外的空間,使用兩者較大值。
在選擇open邊界后會有個open boundary的設(shè)置如下:
對話框中的參數(shù)一般不需要修改。所使用的PML公式提供了一個與材料無關(guān)的獨立的吸收邊界。Estimated reflection level:假設(shè)入射波垂直于單個open邊界區(qū)域時的反射量級,通常1e-4的就足夠了。減小該值可以提高仿真精度,但會增加內(nèi)存和仿真時間。
Automatic minimum distance to structure frame的對話框用于設(shè)置增加的求解域大小,使PML層遠離幾何結(jié)構(gòu),有利于收斂。相關(guān)參數(shù):Fraction of wavelength/Absolute distance combo box:前者增加的空間為(波長/ 輸入的數(shù)值),波長對應(yīng)的頻率在At frequency欄輸入或者使用求解頻率設(shè)置的中值;后者為直接定義距離大小。
Periodic邊界: 周期邊界可定義相移仿真計算域在對應(yīng)方向上周期性擴展。因此周期邊界需要在某個方向上max和min位置同時使用。在屬性頁中設(shè)置“phase”和“scan angles”。通過定義邊界條件可以仿真周期性天線之間的近場影響。但注意這樣定義天線得到的是無限擴展的天線方向圖,用farfield后處理中的antenna array最為準確。
Conducting Wall邊界:等效定義了四周為一面有損金屬lossy metal材料的墻。
Unit Cell邊界:與周期邊界條件非常相似。區(qū)別是定義XY平面2個方向的二維周期性而periodic只定義了一個方向上的周期。
設(shè)置中選擇Fit unit cell to bounding box則模型將在其邊界框處重復(fù),如下:
如果不勾選,則用S1(x)和S2'(y)定義兩個相鄰單元格在兩個不同坐標軸方向上的距離。這兩個軸之間的角度由“grid angle”來定義。S1(x)與全局坐標系的x軸恒對齊。
當XY平面用unit cell邊界時,z方向使用open邊界則有floquet邊界設(shè)置選項,F(xiàn)loquet 端口與waveguide端口類似,都能求解反射和傳輸系數(shù)。Floquet只有Z方向激勵,而且是從Z方向的邊界激勵。而waveguide端口XYZ方向都可以。Waveguide端口可以用電或磁邊界限制,從而手動形成具體的激勵模式(假設(shè)端口激勵整個空間),比如X方向為電邊界,Y方向為磁邊界,然后把端口放在Zmax或Zmin,這就和Floquet的基礎(chǔ)模式等效,TE(0,0)或TM(0,0)。Floquet只支持FEM。
Edit Floquet port: 指定要設(shè)置的Floquet端口。
Number of Floquet modes: 設(shè)置仿真將考慮的Floquet模式的數(shù)量。確保至少考慮了所有的傳播模式。Details中的列表可以用來選擇模式。
Distance to reference plane: 指定到參考平面的距離,通過s參數(shù)獲取正確的相位信息。正值將參考平面向外移動,負值將參考平面向內(nèi)移動。
Polarization independent of scan angle phi: 掃描角函數(shù)隱含在Floquet模式的極化中。如果勾選復(fù)選框,基本模式TE(0,0)和TM(0,0)將線性組合,產(chǎn)生的第一個模式的極化與設(shè)置的極化角對齊(以度為單位,對波導(dǎo)端口為端口的u軸)。
Detail點開后列出關(guān)于Floquet模式的信息,用于自定義Floquet模式?!癗r”欄中的模式號只是一個順序模式號。
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如何設(shè)置Floquet端口
如何確定Floquet模數(shù)和背景距離