CST MWS中半導體材料的復介電常數(shù)是如何得到的？

建模中，半導體材料層的要設置介電常數(shù)，一般有實部和虛部，請問這個復介電常數(shù)的值是怎么得來的，是直接就有的還是說有什么計算公式，例如知道了它 的相對介電常數(shù)，那么可以間接求出復介電常數(shù)嗎》比如GaAs的復介電常數(shù)是多少

半導體的介電常數(shù)跟頻率，組成，摻雜濃度，溫度都有關系，這個有公式的?？茨隳莻€模型具體的情況，影響它的那些是主要因素，一般是摻雜濃度和頻率。相對介電常數(shù)乘以真空介電常數(shù)是復介電常數(shù)。物質(zhì)的介電常數(shù)都可以看成復數(shù)，只不過有些物質(zhì)的虛部很小，在某些情況下忽略了。不要把相對介電常數(shù)和復介電常數(shù)搞混了。

贊同一樓的觀點。不過我覺得相對介電常數(shù)是指某一種介質(zhì)的介電常數(shù)與另一介質(zhì)的介電常數(shù)之比，不一定總是和真空比吧？

學習.............

定義就是和真空之比

請隨便找本書看下定義，確實是跟真空的比。